小型單靶磁控直流濺射鍍膜儀經過小型化設計，將設備外形限制在了桌面級別，大大減少了安裝場地需求。設備配有一個直流電源，能夠用于濺射金屬材料，具有速度快溫升低等特點。

名稱	小型單靶磁控直流濺射鍍膜儀
特點	速度快溫升低 可用于制備單層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等 小型化設計，將設備外形限制在了桌面級別
技術參數(shù)	樣品臺： 直徑100mm，可加熱 *高溫度500℃，可旋轉 0-20rpm 可調 磁控靶槍： 2 英寸圓形平面靶,  真空腔體： Φ180mm × H 215mm;高純石英; 觀察窗口 全向透明; 開啟方式 頂蓋拆卸式 直流電源： 功率 *大150W ，數(shù)量 1 真空系統(tǒng)   機械泵 旋片泵 抽速 1.1L/S，  分子泵 渦輪分子泵 抽速 600L/s  真空測量 電阻規(guī)+電離規(guī)  極限真空 1.0E-4Pa  抽氣接口 KF16 抽氣接口 KF40 排氣接口 KF16 供電電壓：AC220V 50H 整機功率 2kw 整機尺寸：550*350*400mm